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器件类型:二极管
掺杂类型:p型(硼)
脉冲激光沉积镀膜机PLD
电感耦合等离子体刻蚀ICP
槽式湿法刻蚀清洗设备
详情介绍
v 解像力:≤350nm
v 投影倍率:1:5
v 市场尺寸:20mm*20mm(5inch)/ 22mm*22mm(6inch)
v 光源:i-Line 365nm
v 掩膜版尺寸:5inch/6inch(可选)
v 晶圆尺寸:50mm(2inch)/75mm(3inch)/100mm(4inch)/150mm(6inch)/200mm(8inch)(可选)
v 套刻精度:≤40nm
v 设备尺寸:(W)1900*(D)2600*(H)2450mm
型号: 化学气相沉积MOCVD
型号: 反应性离子刻蚀系统RIE
型号: 电感耦合等离子体刻蚀ICP
型号: 等离子增强化学气相沉积PECVD
深圳市矢量科学仪器有限公司
91440300MA5G1QDA16
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