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器件类型:二极管
掺杂类型:p型(硼)
脉冲激光沉积镀膜机PLD
电感耦合等离子体刻蚀ICP
槽式湿法刻蚀清洗设备
详情介绍
v 用途:材料清洗、材料活化、材料刻蚀、材料涂覆
v 80 kHz:功率 1000 或 3000 W
13.56 MHz:功率 0 - 300 W;0 - 600 W;0 - 1000 W
2.45 Hz:功率 0 - 1200 W
所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型
v 圆形不锈钢,带铰链的门(约φ400 mm,长 625 mm)
矩形不锈钢,带铰链的门(约宽 400 mm x 高 400 mm x 深 625 mm)
型号: 化学气相沉积MOCVD
型号: 反应性离子刻蚀系统RIE
型号: 电感耦合等离子体刻蚀ICP
型号: 等离子增强化学气相沉积PECVD
深圳市矢量科学仪器有限公司
91440300MA5G1QDA16
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