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器件类型:二极管
掺杂类型:p型(硼)
脉冲激光沉积镀膜机PLD
电感耦合等离子体刻蚀ICP
槽式湿法刻蚀清洗设备
详情介绍
v 控温范围:室温-300℃
v 温度分辨率:0.1℃
v 控温精度:±0.2℃
v 温度均匀性:<±1%
v 可存贮100组烤胶配方,每个配方可设置5个加热阶段
v 电动顶针调节高度:0-30mm
v 顶针高度分辨率:0.1mm
v 顶针可使用底物直径大于40mm/120mm圆晶,可定制
v 加热面板尺寸:220mm*220mm方形
型号: 化学气相沉积MOCVD
型号: 反应性离子刻蚀系统RIE
型号: 电感耦合等离子体刻蚀ICP
型号: 等离子增强化学气相沉积PECVD
深圳市矢量科学仪器有限公司
91440300MA5G1QDA16
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