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器件类型:二极管
掺杂类型:p型(硼)
脉冲激光沉积镀膜机PLD
电感耦合等离子体刻蚀ICP
槽式湿法刻蚀清洗设备
详情介绍
v 应用领域:巨磁电阻(GMR)、组合材料科学(CMS)、半导体、超导体、纳米级器件、光子学、光伏(PV)、OLED(发光二极管)、有机薄膜
v 最大样品尺寸:8英寸
v 溅射源:强磁靶、永磁靶,数量根据用户定制
v 电源:直流电源、射频电压
v 真空系统:超高真空
v 样品台加热:最高至1100℃
v 控制系统:全自动控制
v 进样室:根据用户需求定制
型号: 化学气相沉积MOCVD
型号: 反应性离子刻蚀系统RIE
型号: 电感耦合等离子体刻蚀ICP
型号: 等离子增强化学气相沉积PECVD
深圳市矢量科学仪器有限公司
91440300MA5G1QDA16
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