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器件类型:二极管
掺杂类型:p型(硼)
脉冲激光沉积镀膜机PLD
电感耦合等离子体刻蚀ICP
槽式湿法刻蚀清洗设备
详情介绍
v 在喷涂法中,喷嘴将要涂抹的溶液喷在晶圆上。经过优化后的晶圆上方喷嘴移动路径可以实现在衬底上均匀的涂层。喷涂所用的液体通常粘度极低,以确保形成细小的液滴
v 喷涂法即使在凹凸图形上也能形成均匀涂层,因此它是这种结构的首选方法。喷涂法还能喷涂方形的衬底
v 对起伏台阶几微米到600微米以上的三维微结构加工
v 基板尺寸最大直径为200 mm,方形最大边长为 6inch
型号: 化学气相沉积MOCVD
型号: 反应性离子刻蚀系统RIE
型号: 电感耦合等离子体刻蚀ICP
型号: 等离子增强化学气相沉积PECVD
深圳市矢量科学仪器有限公司
91440300MA5G1QDA16
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