产品性能：

 ◆全自动：盒到盒（Cassette To Cassette）

 ◆模块化设计,SEMI标准

 ◆满足4～8/12英吋晶圆工艺

 ◆每台1～4/5管，石英/SiC反应管

 ◆恒温区：800/1000/1250mm

 ◆温度：200～1300℃/1350℃

 ◆全自动机械手装卸，悬臂/软着陆

 ◆高集成度，完整的工厂MES系统对接

 配套工艺：

 ◆扩散炉：气态/液态/固态源磷硼扩散 

 ◆氧化炉：干氧/湿氧（DCE，HCL）

 ◆氮、氢退火，烧结、合金、固化等

 ◆镓、铝扩散，LP POCl3

 ◆LPCVD工艺：多晶硅P-Si，氮化硅Si3N4，氧化硅SiO2，磷硅玻璃PSG，硼磷硅玻璃BPSG，TEOS，LTO，HTO，SIPOS...

 ◆PECVD工艺：氮化硅、氧化硅等。