是一种用于处理半导体、液晶以及太阳能等行业中蚀刻制程与化学气相沉积制程中使用的特气废气的设备

适用气体：SiH4、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等

l 纯水洗

l 等离子干式

l 等离子水洗

l 电加热催化

l 电加热催化水洗

l 电加热干式

l 电加热水洗

l 干式吸附(手动)

l 干式吸附(自动)

l 干式吸附双桶(自动）